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        提高半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)去膠效率的方法

        在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠的去除是關(guān)鍵步驟之一。等離子去膠技術(shù)因其高效、環(huán)保和精確性被廣泛應(yīng)用于這一過程。然而為了進(jìn)一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,優(yōu)化半導(dǎo)體等離子...

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        技術(shù)文章| Technical articles

        大氣等離子清洗機(jī)儀器作用原理是什么?

        大氣等離子清洗機(jī)是通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體,從而利用這些活性組分的性質(zhì)進(jìn)行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學(xué)反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),實(shí)現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的的設(shè)備。以下是對大氣等離子清洗機(jī)的詳細(xì)介紹:1.基本原理:等離子清洗機(jī)通過對工藝氣體施加電場使其電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括離子、電子、原子、自由活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。2.主要功能:利用等離子體的活性組分進(jìn)行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學(xué)反應(yīng),改變樣品表面...

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